真空甩带炉是一种利用电热加热和管道真空系统实现物质的加热、蒸发和淀积的装置。它的工作原理是将高纯度的原料薄膜加热挥发，然后在真空环境中使薄膜沉积在基板上形成薄膜，以实现薄膜的制备和加工。

该设备具有高温、高真空度、均一加热等特点，因此广泛应用于光电子、半导体、化学、材料等领域中的薄膜制备和加工工艺。